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擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工的硅
片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、 控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。

用工控機(jī)微控方式或者程控方式操作。


擴(kuò)散爐技術(shù)指標(biāo):
可處理硅片尺寸:2—12英寸
外型形式:臥式1—4管結(jié)構(gòu)
工作溫度:200℃—1300℃
恒溫區(qū)長度及精度:200mm—1100mm≤±0.5℃
單點溫度穩(wěn)定性、重復(fù)性:≤±1℃/24h
溫度斜變:可控升溫速率15℃/min
可控降溫速率:5℃/min
送片裝置:手動推拉
氣路系統(tǒng):1—5路工藝氣體/管
氣體控制:手動浮子流量計
控制方式:程控


詳情:

規(guī)格參數(shù)

  • 行業(yè)分類:

    機(jī)械及行業(yè)設(shè)備/電子產(chǎn)品制造設(shè)備/其他電子產(chǎn)品制造設(shè)備

  • 產(chǎn)品類別:

  • 品  牌:

    福潤德

  • 規(guī)格型號:

  • 庫  存:

  • 生 產(chǎn) 商:

    青島福潤德微電子設(shè)備有限公司

  • 產(chǎn)  地:

    中國山東省青島市

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